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北京燕京电子有限公司
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椭偏仪

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更新时间
2019-01-30 14:25:02
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产品介绍

椭圆偏振光谱仪主要用于测量薄膜厚度,光学常数,薄膜表面粗糙度以及其他的物理,化学,光学性能。美国AST公司设计和制造适合不同应用的高品质椭圆偏振光谱系统,其产品具有强大的分析功能软件TFProbe3.0,可以帮助研发或实验人员迅速地获得薄膜的厚度,表面粗糙度,合金成分和介电常数等数据。

这可能是高的椭偏仪了!

产品特点:

  • 易于安装
  • 基于视窗结构的软件,很容易操作
  • 的光学设计,以确保能发挥出佳的系统性能
  • 能够自动的以0.01度的分辨率改变入射角度
  • 高功率的DUV-VIS光源,能够应用在很宽的波段内
  • 基于阵列设计的探测器系统,以确保快速测量
  • 多可测量12层薄膜的厚度及折射率
  • 能够用于实时或在线的监控光谱、厚度及折射率等参数
  • 系统配备大量的光学常数数据及数据库
  • 对于每个被测薄膜样品,用户可以利用的TFProbe3.0软件功能选择使用NK数据库、也可以进行色散或者复合模型(EMA)测量分析
  • 三种不同水平的用户控制模式:模式、系统服务模式及初级用户模式
  • 灵活的模式可用于各种的设置和光学模型测试
  • 健全的一键按钮(Turn-key)对于快速和日常的测量提供了很好的解决方案
  • 用户可根据自己的喜好及操作惯来配置参数的测量
  • 系统有着全自动的计算功能及初始化功能
  • 无需外部的光学器件,系统从样品测量信号中,直接就可以对样品进行的校准
  • 可精密的调节高度及倾斜度
  • 能够应用于测量不同厚度、不同类型的基片
  • 各种方案及附件可用于诸如平面成像、测量波长扩展、焦斑测量等各种特殊的需求
  • 2D和3D的图形输出和友好的用户数据管理界面。

 

系统配置:

  • 型号:SE200BA-M300
  • 探测器:阵列探测器
  • 光源:高功率的DUV-Vis-NIR复合光源
  • 指示角度变化:可编程设定,自动可调
  • 平台:ρ-θ配置的自动成像
  • 软件:TFProbe 3.2版本的软件
  • 计算机:Inter双核处理器、19”宽屏LCD显示器
  • 电源:110–240V AC/50-60Hz,6A
  • 保修:一年的整机及零备件保修

 

基本参数:

  • 波长范围:250nm到1000 nm
  • 波长分辨率: 1nm
  • 光斑尺寸:1mm至5mm可变
  • 入射角范围:10到90度
  • 入射角变化分辨率:0.01度
  • 样品尺寸:大直径为300mm
  • 基板尺寸:多可至20毫米厚
  • 测量厚度范围*:0nm〜10μm
  • 测量时间:约1秒/位置点
  • 度*:优于0.25%
  • 重复性误差*:小于1 Ǻ

 

应用领域:               

  • 半导体制造(PR,Oxide, Nitride..)
  • 液晶显示(ITO,PR,Cell gap... ..)
  • 医学,生物薄膜及材料领域等
  • 油墨,矿物学,颜料,调色剂等
  • 医药,中间设备
  • 光学涂层,TiO2, SiO2, Ta2O5... ..
  • 半导体化合物
  • 在MEMS/MOEMS系统上的功能性薄膜
  • 非晶体,纳米材料和结晶硅

 

产品可选项:             

  • 用于反射的光度测量或透射测量
  • 用于测量小区域的微小光斑
  • X-Y成像平台(X-Y模式,取代ρ-θ模式)
  • 加热/致冷平台
  • 样品垂直安装角度计
  • 波长可扩展到远DUV或IR范围
  • 扫描单色仪的配置
  •  联合MSP的数字成像功能,可用于对样品的图像进行测量

详细资料